Logo

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

32682 LEI
36313 LEI
-10%
În Stoc
Descriere

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume.

The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up.

Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Detalii
  • ISBN: 9780815512882
  • Autori: John E.J. Schmitz
  • Limba: Engleză
  • An apariție: 1992
  • Coperta: Hardcover
  • Editura: Elsevier Science
  • Nr. pagini: 251
  • Greutate: 470gr
Ratings
to add a review
Recenzii
  • Nicio recenzie găsită.

📚

Suntem în construcție!

Pregătim o nouă experiență pentru cititori.
Între timp, te invităm să vizitezi ebookshop.ro.

Mergi la site-ul existent →

Redirecționare automată în 5 secunde…