Logo

Plasma Etching

32682 LEI
36313 LEI
-10%
În Stoc
Descriere

Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing.

Suitable for researchers, process engineers, and graduate students, this book introduces the basic physics and chemistry of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms.

Throughout the volume the authors offer practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods.

Detalii
  • ISBN: 9780124693708
  • Autori: Daniel L. Flamm, Dennis M. Manos
  • Limba: Engleză
  • An apariție: 1989
  • Coperta: Hardcover
  • Editura: Elsevier Science
  • Nr. pagini: 476
  • Greutate: 750gr
Ratings
to add a review
Recenzii
  • Nicio recenzie găsită.

📚

Suntem în construcție!

Pregătim o nouă experiență pentru cititori.
Între timp, te invităm să vizitezi ebookshop.ro.

Mergi la site-ul existent →

Redirecționare automată în 5 secunde…