This latest volume of the well-known Physics of Thin Films Series includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalancedmagnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Nicio recenzie găsită.
Pregătim o nouă experiență pentru cititori. Între timp, te invităm să vizitezi ebookshop.ro.
Redirecționare automată în 5 secunde…
Recenzii
Nicio recenzie găsită.